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8月8日是雷博微電子開啟半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域深耕發(fā)展的紀念日，在工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的發(fā)展歷程中，雷博微電子一路追風(fēng)乘勢，在前進的道路上奮力奔跑，留下了一串串奠基、開拓、奮進、奉獻的堅實足跡。

Mask專用工藝設(shè)備

黃光制程是半導(dǎo)體生產(chǎn)中至關(guān)重要的一個環(huán)節(jié)，它直接影響到芯片的性能和良率，它涉及光刻膠的涂布、曝光、顯影以及刻蝕等關(guān)鍵步驟，這些步驟在半導(dǎo)體制程中扮演著核心角色，對工藝的精密度要求極高。

雷博微電子的自研設(shè)備已打通黃光段全流程，我們有能力為客戶提供“為最終效果負責(zé)”的一站式服務(wù)。

7月12日，第十六屆集成電路封測產(chǎn)業(yè)鏈創(chuàng)新發(fā)展論壇（CIPA 2024）在蘇州金雞湖國際會議中心開幕，本屆會議以「共筑先進封裝新生態(tài)，引領(lǐng)路徑創(chuàng)新大發(fā)展」為主題，通過主旨論壇、專題論壇、圓桌對話和展覽展示等多種活動，分享集成電路先進封裝技術(shù)的最新成果和應(yīng)用案例。雷博微電子在本屆會議中，攜最新的研發(fā)成果亮相展位，并在半導(dǎo)體設(shè)備與材料專題對接會中發(fā)表了精彩演講。

光刻工藝是半導(dǎo)體制造過程中的一個關(guān)鍵步驟，用于在晶圓（wafer）上生成微小的圖案，這些圖案是半導(dǎo)體電路的一部分。Clean track系統(tǒng)在光刻過程中扮演了重要的角色，專門用于涂覆、烘烤和顯影，確保這些步驟在無塵環(huán)境中進行，以避免任何污染。

6月26日—28日，SEMI-e第六屆深圳國際半導(dǎo)體展在深圳國際會展中心4/6/8號館成功舉辦！

6月20日，雷博微電子舉辦了員工生日會&新員工茶話會，為員工提供了一個歡聚一堂的機會，與員工共同慶祝生命中的重要時刻并歡迎新成員的加入。

SEMI-e 2024第六屆深圳國際半導(dǎo)體技術(shù)暨應(yīng)用展覽會以【“芯"中有"算”·智享未來】為主題，本屆展會將邀請以芯片設(shè)計、晶圓制造、封裝測試、材料和設(shè)備及核心部件為領(lǐng)域的展商參展，是國產(chǎn)半導(dǎo)體領(lǐng)域具有影響力和代表性的行業(yè)展會。同時聚焦半導(dǎo)體細分領(lǐng)域：IC載板暨陶瓷封裝、第三代半導(dǎo)體、IGBT、AL算力、算法、存儲、電源及儲能、毫米波雷達及自動駕駛、Mini/Micro-LED 等各種最新應(yīng)用解決方案。

本屆展會將為產(chǎn)業(yè)鏈的升階發(fā)展搭建供需精準對接、雙向奔赴的平臺，探索半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展新路徑，共掘

單元堆疊配置，整機尺寸大幅縮小，節(jié)約廠房占地面積